腔體材質(zhì)：不銹鋼表面處理

供電電源：AC220V

工作電流：整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)

電源功率：0-300/0-600W可調(diào)

頻率：13.56MHz（偏移量小于0.2KHz）頻率偏移量：小于0.2KHz

特性阻抗：50歐姆，自動匹配

真空度：1pa-30Pa

氣體路數(shù)：雙路氣體輸入

氣體流量：浮子流量計0-160ml

過程控制：PLC人機界面自動與手動方式

清洗時間：1-99999秒鐘可調(diào)

功率大?。?span>10%-100%可調(diào)

內(nèi)腔尺寸：L×W×H  370×320×130mm （15L容量）

外形尺寸：650長x600寬x高750mm（臺式）    

重量：95Kg

真空泵：飛越泵VRD-16 (抽速4.4L/S)含油霧過濾器或排煙管

真空室溫度：小于65°C

冷卻方式：強制風(fēng)冷

負(fù)壓調(diào)節(jié)：極限真空調(diào)節(jié)閥

什么是等離子體？物質(zhì)有四種的表現(xiàn)形式：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)、等離子態(tài)
? 我們可以簡單地從水分子的情況回顧一下物質(zhì)的四種狀態(tài)。在絕對零度（-273℃）水和所有物質(zhì)都是固態(tài)，原子停止振動。隨著提供原子能亮（加熱），原子開始再次振動，并且分子恢復(fù)動力。溫度一直上升到0℃，H2O分子保持在固態(tài)（冰）。更多能量的施加引起固態(tài)中H2O分子振動的區(qū)域發(fā)生轉(zhuǎn)變，H2O從固態(tài)變成液態(tài)（水）。給液體增加能量不斷地激活分子直到水再一次改變狀態(tài)，這一次從液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)（蒸汽）。
? 能量的進一步施加，致使分子太活躍不能保持它的分子完整性?；谶@一點H2O將分裂為它的組成部分（氫和氧原子），同時釋放出高能自由電子。由于電子和離子重新組合釋放出光子，一個可見的放電發(fā)光區(qū)被激發(fā)，物質(zhì)的這種狀態(tài)的亞原子狀態(tài)被稱為“等離子體”。
? 隨著頻率或微博源的停止施加，各種亞原子態(tài)的離子重新合成更穩(wěn)定的分子形式。
? 發(fā)生在我們身邊的等離子體有恒星、氖發(fā)光、極光等等。


為什么用等離子體清洗？
直接把高能等離子體流施加到被清洗表面以達到等離子體清洗的目的。例如：用氧氣等離子體可以使有機物沉積被氧化掉；用惰性的氬氣等離子體可以使顆粒污染被機械地沖洗掉，等等。寬范圍的選擇氣體種類，可以滿足很多等離子體清洗的要求。
? 頻射場區(qū)中離子的物理加速促進了清洗工藝。事實上，等離子體的強度直接決定于：
a） 反應(yīng)器的幾何尺寸
b） 產(chǎn)生等離子體的頻射電源
c） 氣體的流速
d） 真空泵的抽速
e） 真空度
f） 使用的反應(yīng)物和稀釋氣體


等離子體清洗設(shè)備的類型
形成等離子體的基本因素是低于大氣壓狀態(tài)的氣體放電。反應(yīng)室的尺寸有各種各樣的形式，電極的結(jié)構(gòu)取決于樣品托盤和常規(guī)的反應(yīng)室結(jié)構(gòu)。
三種流行的設(shè)計是：
（1） 感應(yīng)耦合“桶式”反應(yīng)室
（2） 電容耦合“平行平板”反應(yīng)室
（3） “順流”反應(yīng)室
這三種類型的反應(yīng)室都可以用頻射和微博電源產(chǎn)生等離子體。
感應(yīng)耦合“桶式”反應(yīng)室
一種早期設(shè)計成“桶式”反應(yīng)室的等離子體清洗機，頻射能量在反應(yīng)室外壁和內(nèi)部電中性有孔的法拉第籠之間流動。等離子體在桶的內(nèi)壁和法拉第籠外壁之間產(chǎn)生。
這個有孔的籠是電中性的（不接地），它僅僅形成一個機械的屏障阻擋等離子體進入工作區(qū)，容許一些亞原子種類的混合物進入負(fù)載區(qū)。這樣從電源方向看起來，有孔的法拉第鞘和工作區(qū)像是一個感應(yīng)電容。
? 因此，電源的匹配網(wǎng)絡(luò)必須予先調(diào)節(jié)好，才能符合每一個不同的工作負(fù)載。獲得均勻清洗效果。還有，由于氣體的原子必須通過從內(nèi)鞘到工作負(fù)載這一段廠距離，這種方法的清洗效率非常低。并且工作區(qū)中樣品的外邊得到更多的處理，而樣品中間得到的少。
? 由于以上的原因，工業(yè)已經(jīng)很少使用這種等離子體清洗技術(shù)。
電容耦合平行平板反應(yīng)室
? ?在這種方法中，樣品杯直接地放置在一個電極上。平行平板的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了一個均勻的等離子體覆蓋樣品負(fù)載，樣品收到磁、RF、電子、x射線、光子的轟擊。工作區(qū)會產(chǎn)生熱能。
平行平板榮幸順流反應(yīng)室
? 這種設(shè)計師學(xué)習(xí)了上面所描述的技術(shù)產(chǎn)生的結(jié)果。工程師設(shè)想一個理想的、適應(yīng)廣泛的等離子體清洗機都應(yīng)該包括什么內(nèi)容。他們理想的狀態(tài)如下：
1. 應(yīng)該有一個均勻的等離子體區(qū)，使樣品的邊緣和中心具有相同的清洗均勻性。
2. 不管負(fù)載的輕重，系統(tǒng)電源的設(shè)定應(yīng)該是不受約束的。設(shè)定值不管放在一個樣品或放慢樣品都應(yīng)該是一個值。
3. 設(shè)備應(yīng)該具有盡可能的生產(chǎn)能力。
4. 在等離子體工藝期間，即使是大多數(shù)敏感器件也不發(fā)生電子損傷。
以上看起來是不可能達到的目標(biāo)，因為這些理想的狀態(tài)好像有一些沖突。經(jīng)過一些工程師的努力，“順流等離子體”的概念被創(chuàng)造出來，清洗樣品放置在容性負(fù)載的外面，這樣解決了上面的第二個問題。
?平行平板的結(jié)構(gòu)（替代桶式）提供了一個在所有樣品便面均勻的等離子體，并且難呢過提供最大的樣品裝載能力，因此滿足（1）和（3）的要求
下電極接地（電中性）確保有所的高能電子不能接觸到樣品的表面，第（4）點也被照顧到了。

這種等離子體清洗機是現(xiàn)在流行的，可以滿足比較苛刻的清洗工藝要求。